产品名称：薄膜测厚仪  
主要技术指标：  
测量范围（VIS）：15nm—100μm  
测量重复性（RMS）：0.086nm  
测量精度（与椭偏仪对比）：0.25nm  
测量层数：大于3层  
使用光源：卤素灯；  
入射角度：90°  
测试材料：透明或半透明薄膜材料；  
光斑尺寸：20μm—3mm（可选）  
测量时间：100ms—4ms；  
通信接口：USB2.0  
产品特点：  
采用光谱干涉原理进行测量，具有非接触、无破坏、快速等特点；  
可在真空环境使用；可与大行程工件台配合，实现大面积膜厚自动测量。  
产品名称：薄膜测厚仪  
主要技术指标：  
测量范围（VIS）：15nm—100μm  
测量重复性（RMS）：0.086nm  
测量精度（与椭偏仪对比）：0.25nm  
测量层数：大于3层  
使用光源：卤素灯；  
入射角度：90°  
测试材料：透明或半透明薄膜材料；  
光斑尺寸：20μm—3mm（可选）  
测量时间：100ms—4ms；  
通信接口：USB2.0  
产品特点：  
采用光谱干涉原理进行测量，具有非接触、无破坏、快速等特点；  
可在真空环境使用；可与大行程工件台配合，实现大面积膜厚自动测量。
本产品信息由安徽智微科技有限公司整理发布，更多关于薄膜测厚仪的信息请访问： 
http://www.zwscience.com/Products-35707688.html 
https://www.chem17.com/st476407/erlist_2228784.html